半导体清洗设备市场

一般来讲，清洗分为湿法和干法两种，fab里基本都是湿法（占清洗步骤数量 90%以上），极少数两者结合的方式（干法是指用等离子清洗、超临界气相清洗、束流清洗等技术）。

半导体fab清洗设备用在哪？目的是啥？

fab每一道process后都得把wafer洗洗干净，才能继续下一道process！

把wafer洗干净，避免报废！湿法就是用化学品和去离子水洗wafer，把particle、自然氧化层、金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等表面不需要的东西洗掉。干法就是用非液体的形式。

那fab里湿法清洗设备有哪些分类呢？

一般来讲，分为单片清洗设备、槽式清洗设备、单片槽式组合清洗设备等。第一、单片式清洗设备占比最高，超75%。主要是由于单片清洗设备具备极高的工艺控制和微粒去除能力，可有效的解决晶圆间交叉污染，制程越先进，比例越高。主要采用旋转喷淋，兆声波清洗，二流体清洗，机械刷洗等方式。
第二、槽式清洗设备占比第二，约15%。特点是清洗产能高，适合大批量生产；但颗粒，湿法刻蚀速度控制差；交叉污染风险大，在小尺寸、非先进工艺和不key的process中使用。主要采用溶液浸泡，兆声波清洗等方式。

第三、其余类型约占10%。组合式产能较高，清洗精度也很高，并可大幅降低浓硫酸使用量；产品造价较高。主要采用溶液浸泡+旋转喷淋组合清洗方式。

市场空间有多大？
2022年，中国半导体清洗设备规模81290万元。2023年，中国半导体清洗设备规模81290万元。

国产化如何？

中国半导体清洗设备行业的竞争格局呈现出明显的层次化特征，可以根据企业的市场规模、技术实力、资本背景和项目经验等综合实力，将行业内的企业划分为不同的梯队。

第一梯队：这一梯队的企业通常具有较大的市场规模、领先的技术实力、雄厚的资本背景和丰富的项目经验。它们在国内新能源汽车领域半导体清洗设备市场中占据主导地位，拥有较高的市场份额和品牌影响力。这些企业通常具备自主研发能力，能够推出具有竞争力的新产品，满足市场和客户的多样化需求。第一梯队的企业通常是国内半导体设备行业的龙头企业，如盛美半导体设备（上海）股份有限公司、北方华创科技集团股份有限公司、沈阳芯源微电子设备股份有限公司、上海至纯洁净系统科技股份有限公司、苏州晶淼半导体设备有限公司等。

第二梯队：这一梯队的企业在市场规模、技术实力、资本背景和项目经验等方面稍逊于第一梯队，但仍然在行业中占据一定的地位，例如上海微电子装备（集团）股份有限公司、中国科学院光电技术研究所等公司，它们通常具有一定的自主研发能力，能够推出具有一定竞争力的产品，满足部分市场和客户的需求。第二梯队的企业数量较多，竞争较为激烈。这些企业需要不断加强技术研发和市场拓展，提升自身的综合实力，以应对激烈的市场竞争。

第三梯队：这一梯队的企业在市场规模、技术实力、资本背景和项目经验等方面相对较弱，处于行业的边缘地带，像济宁亨达超声设备有限公司、济南科尔超声波设备有限公司等，它们通常缺乏自主研发能力，主要依赖引进技术和设备进行生产。第三梯队的企业数量众多，但市场份额较小，竞争力较弱。这些企业需要加强技术研发和市场拓展，提高产品质量和服务水平，以增强自身的市场竞争力。

图表1中国半导体清洗设备行业竞争格局

根据头部企业的营收情况，2022-2023年盛美半导体设备（上海）股份有限公司、北方华创科技集团股份有限公司、沈阳芯源微电子设备股份有限公司、上海至纯洁净系统科技股份有限公司、苏州晶淼半导体设备有限公司的产品营收名列前茅。

图表2 2022-2023年中国半导体清洗设备企业市场占有率排名情况

​